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2025

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0.1nm 垂直分辨率：新啟航 3D 白光干涉儀如何讓光學表...

一、引言光學表面缺陷，如納米級劃痕、凹陷、凸起等，對精密光學儀器性能影響極大。傳統(tǒng)檢測設備因垂直分辨率不足，難以精準識別微小缺陷。新啟航3D 白光干涉儀憑借 0...

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2025

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納米測量 “卡脖子” 突圍：新啟航打破歐美設備壟斷的三大戰(zhàn)役

一、引言在半導體、精密制造等高端領域，納米級測量裝備長期被歐美企業(yè)壟斷，ZYGO、賽默飛世爾等巨頭占據(jù)全球 90% 以上市場份額。其設備價格高昂、技術封鎖嚴密，...

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2025

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國產(chǎn)裝備 “精度革命”：新啟航憑何定義半導體測量新基準？

一、引言半導體制造對測量精度的要求隨著制程升級不斷提升，傳統(tǒng)測量裝備已難以滿足7nm 及以下制程的檢測需求。長期以來，國外企業(yè)主導高端半導體測量裝備市場，其技術...

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2025

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3D 白光干涉儀成本 “腰斬” 之路：新啟航讓納米級檢測從小...

一、引言在半導體、精密制造等高端產(chǎn)業(yè)升級浪潮中，3D 白光干涉儀作為納米級表面檢測的核心設備，其需求持續(xù)攀升，2024 年中國市場規(guī)模已達 25 億元，且半導體...

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