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        新啟航半導體有限公司


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        04
        2024
        -
        07
        科普分享|雙重與多重圖形技術
        雙重圖形技術是將193nm浸沒式光刻延伸至關鍵尺寸<=45nm的芯片制造關鍵技術。與非線性雙重曝光技術不同,雙重圖形技術不存在材料與產率方面的問題,已廣泛...
        科普分享|雙重與多重圖形技術
        03
        2024
        -
        07
        科普分享|低成本光刻技術之激光直寫光刻
        低成本光刻主要指的是無需投影成像的光刻技術,如掩模接近式光刻,激光直寫光刻,無衍射極限的光學光刻等。盡管這些技術的產率、分辨率和工藝控制能力普遍低于DUV和EU...
        科普分享|低成本光刻技術之激光直寫光刻
        03
        2024
        -
        07
        芯聞動態|Omdia研究發現,半導體市場因需求疲軟而出現季度...
        來源:內容來自Omdia 摘要 根據Omdia的最新的半導體總體競爭工具(Competitive Landscaping Tool)顯示,2...
        芯聞動態|Omdia研究發現,半導體市場因需求疲軟而出現季度下滑
        27
        2024
        -
        06
        公司組織開展職業病防治培訓以及應急救護、消防應急演練
        保護員工身心健康,預防職業病為深入宣傳貫徹《職業病防治法》,進一步普及職業病防治知識,提高員工自我防護意識和能力,公司針對職業病防治知識對員工進行專題培訓。參訓...
        公司組織開展職業病防治培訓以及應急救護、消防應急演練
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